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EUV(极端紫外光)【13.5nm】
「EUV」（Extreme Ultraviolet 极端紫外光源）是美日欧新开发，并引起大众注意的新一代半导体曝光用光源。。在日本研究開發國家計畫的「EUVA」方面、GIGAPHOTON 一同參與推動EUV的開發。此外，具有欧洲研究开发力的德国XTREME 纳入集团，透过日欧坚强的合作开发体制，以及早期达成事业化为目标加速开发。
※有关EUV的咨询，请参阅GIGAPHOTON Inc.或是XTREME technologies GmbH （英文）。
开发产品
2003年 DPP光源 XTS13-15
